第436章 3D三栅极晶体管（第2/2页）

顾松再次露出一个灿烂的笑容：“让大家久等了，这就开始。让我们先从很多人最关注的地方开始吧。22纳米制程工艺，以及EUV光刻机。”

英特尔的高管猛的心神巨震。

EUV光刻机？

其他懂这个的，立刻张大了嘴巴。还真有未公布的新成果？

什么情况？浸润式光刻机不是刚做出来不久吗？怎么就有极紫外光刻机了？

ASML倒是一直在做，原来说04年推出的，现在肯定是集中精力改进浸润式光刻机去了，EUV光刻机没有新消息。

顾松不等众人疑惑不解，就说道：“浸润式光刻，经过我们的一段实验和论证，它的有效极限，应该就是22纳米。所以，极紫外光刻的研发已经提上了日程，我们只取得了很小的进展。之所以在这里提出来，也是向各位有需要的伙伴发出邀请，一起攻克这个难题。”

听到这话，凯文·卡尔心头一动，这是一个很好的信号。

唯一只需要考虑的，就是老家伙们，愿不愿意与华国展开合作。

英特尔的高管也长舒一口气。

如果说燧石科技又拿出来22纳米制程工艺，又完成了可以突破到10纳米甚至7纳米制程的极紫外光刻机，那将极大地影响英特尔接下来至少10年到20年的战略走向。

台上，顾松通过幻灯片呈现出了他最期待想看到的一个东西。

“诸位，这就是22纳米制程工艺下的3D三栅极晶体管示意图。”