第2285章 小灵通和光刻机（第2/2页）

在高端芯片领域，由于国内厂商尚未形成规模效应与集群效应，所以其生产仍以“代工”模式为主。

而且，就算国内的厂家，能自主研发出芯片，也没有能力生产。

光刻机，英文名为Mask Aligner，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在3千万至5亿美元。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

国外品牌主要以荷兰的阿斯麦尔，也就是ASML公司，他们的镜头来自德国，还有尼康Nikon，intel曾经购买过Nikon的高端光刻机，以及佳能Canon三大品牌为主。

而能笑到最后的，只剩下荷兰的ASML。

国内手机厂家，充其量，也就是做一做组装的活计。

当然了，组装活也大有可为，而且也颇有技术活量，做好了，照样可以把企业做大做强。

可是，芯片掌握在别人手里，一旦别人断供，那你将无芯可用，也就制造不出手机，到时你冲得越高，也将摔得越惨。

杨飞想做的，不是昙花一现的小灵通，而是为将来布局的光刻机！

至于怎么做，杨飞已经在布局之中了！